SLA (الطباعة الحجرية المجسمة) هي عملية تصنيع مضافة تعمل من خلال تركيز ليزر الأشعة فوق البنفسجية على وعاء من راتنج البوليمر الضوئي.بمساعدة التصنيع بمساعدة الكمبيوتر أو برنامج التصميم بمساعدة الكمبيوتر (CAM/CAD)، يتم استخدام الليزر فوق البنفسجي لرسم تصميم أو شكل مبرمج مسبقًا على سطح وعاء البوليمر الضوئي.تعتبر البوليمرات الضوئية حساسة للضوء فوق البنفسجي، لذلك يتم تقوية الراتينج كيميائيًا ضوئيًا ويشكل طبقة واحدة من الجسم ثلاثي الأبعاد المطلوب.يتم تكرار هذه العملية لكل طبقة من التصميم حتى يكتمل الكائن ثلاثي الأبعاد.
يمكن أن تقدم CARMANHAAS للعملاء النظام البصري الذي يتضمن بشكل أساسي ماسح الجلفانومتر السريع وعدسة المسح F-THETA وموسع الشعاع والمرآة وما إلى ذلك.
رأس الماسح الضوئي جالفو 355 نانومتر
| نموذج | PSH14-H | PSH20-H | PSH30-H |
| رأس مسح بارد/مختوم بالماء | نعم | نعم | نعم |
| الفتحة (مم) | 14 | 20 | 30 |
| زاوية المسح الفعالة | ± 10 درجة | ± 10 درجة | ± 10 درجة |
| متابعة الخطأ | 0.19 مللي ثانية | 0.28 مللي ثانية | 0.45 مللي ثانية |
| وقت استجابة الخطوة (1% من الحجم الكامل) | ≥ 0.4 مللي ثانية | ≥ 0.6 مللي ثانية | ≥ 0.9 مللي ثانية |
| السرعة النموذجية | |||
| تحديد المواقع / القفز | <15 م/ث | <12 م/ث | <9 م/ث |
| مسح الخط / المسح النقطي | <10 م/ث | <7 م/ث | < 4 م / ث |
| مسح ناقلات نموذجي | < 4 م / ث | <3 م/ث | <2 م/ث |
| جودة كتابة جيدة | 700 سي بي | 450 سي بي | 260 سي بي |
| جودة كتابة عالية | 550 سي بي | 320 سي بي | 180 سي بي |
| دقة | |||
| الخطية | 99.9% | 99.9% | 99.9% |
| دقة | ≥ 1 أوراد | ≥ 1 أوراد | ≥ 1 أوراد |
| التكرار | ≥ 2 أوراد | ≥ 2 أوراد | ≥ 2 أوراد |
| الانجراف في درجة الحرارة | |||
| الانجراف الأوفست | ≥ 3 أوراد/درجة مئوية | ≥ 3 أوراد/درجة مئوية | ≥ 3 أوراد/درجة مئوية |
| Qver 8 ساعات من انجراف الأوفست على المدى الطويل (بعد 15 دقيقة من التحذير) | ≥ 30 أوراد | ≥ 30 أوراد | ≥ 30 أوراد |
| نطاق الحرارة الشغالة | 25 درجة مئوية ± 10 درجة مئوية | 25 درجة مئوية ± 10 درجة مئوية | 25 درجة مئوية ± 10 درجة مئوية |
| واجهة الإشارة | التناظرية: ± 10 فولت رقمي: بروتوكول XY2-100 | التناظرية: ± 10 فولت رقمي: بروتوكول XY2-100 | التناظرية: ± 10 فولت رقمي: بروتوكول XY2-100 |
| متطلبات طاقة الإدخال (تيار مستمر) | ±15 فولت عند 4 أمبير بحد أقصى RMS | ±15 فولت عند 4 أمبير بحد أقصى RMS | ±15 فولت عند 4 أمبير بحد أقصى RMS |
355 نانومترإف ثيتا عدسةes
| جزء الوصف | البعد البؤري (مم) | مجال المسح (مم) | مدخل ماكس التلميذ (مم) | مسافة العمل (مم) | تصاعد خيط |
| SL-355-360-580 | 580 | 360x360 | 16 | 660 | M85x1 |
| SL-355-520-750 | 750 | 520x520 | 10 | 824.4 | M85x1 |
| SL-355-610-840-(15CA) | 840 | 610x610 | 15 | 910 | M85x1 |
| SL-355-800-1090-(18CA) | 1090 | 800x800 | 18 | 1193 | M85x1 |
موسع شعاع 355 نانومتر
| جزء الوصف | توسع نسبة | إدخال CA (مم) | إخراج CA (مم) | السكن ضياء (مم) | السكن الطول (مم) | تصاعد خيط |
| BE3-355-D30:84.5-3x-A(M30*1-M43*0.5) | 3X | 10 | 33 | 46 | 84.5 | M30*1-M43*0.5 |
| BE3-355-D33:84.5-5x-A(M30*1-M43*0.5) | 5X | 10 | 33 | 46 | 84.5 | M30*1-M43*0.5 |
| BE3-355-D33:80.3-7x-A(M30*1-M43*0.5) | 7X | 10 | 33 | 46 | 80.3 | M30*1-M43*0.5 |
| BE3-355-D30:90-8x-A(M30*1-M43*0.5) | 8X | 10 | 33 | 46 | 90.0 | M30*1-M43*0.5 |
| BE3-355-D30:72-10x-A(M30*1-M43*0.5) | 10X | 10 | 33 | 46 | 72.0 | M30*1-M43*0.5 |
مرآة 355 نانومتر
| جزء الوصف | القطر (مم) | سمك (مم) | طلاء |
| 355 مرآة | 30 | 3 | HR@355 نانومتر، 45 درجة AOI |
| 355 مرآة | 20 | 5 | HR@355 نانومتر، 45 درجة AOI |
| 355 مرآة | 30 | 5 | HR@355 نانومتر، 45 درجة AOI |
